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    中國(guó)28nm光刻機(jī)最新消息

    蔚背19245083510咨詢:    在光刻工藝中,哪個(gè)步驟直接決定了光刻膠上圖形結(jié)構(gòu)的形成( ). - 上學(xué)吧
    沾益縣載荷回復(fù): ______ 用的荷蘭阿斯麥爾公司的光刻機(jī).14nm芯片量產(chǎn)用的是荷蘭阿斯麥爾公司生產(chǎn)的duv光刻機(jī)14nm芯片量產(chǎn)應(yīng)該是指中芯國(guó)際的代工芯片技術(shù)達(dá)到14nm制程,這家公司基本用的都是荷蘭阿斯麥爾的光刻機(jī).因?yàn)樯虾N㈦娮幽壳爸挥?0nm光刻機(jī),量很少也不適合制造14nm芯片.日本尼康和佳能的光刻機(jī)也類似,所以中高制程芯片用的都是荷蘭阿斯麥爾duv光刻機(jī).

    蔚背19245083510咨詢:    光芯片能突破1納米嗎
    沾益縣載荷回復(fù): ______ 目前不可以,需要更換材料和光刻設(shè)備.芯片制程以目前的硅基芯片和紫外光光刻機(jī)來(lái)說(shuō)是無(wú)法達(dá)到1nm制程的,因?yàn)楣柙邮?/4nm,而晶體管結(jié)構(gòu)使晶體管的尺寸無(wú)法小于1nm.所以想要小于1nm就必須更換其他比硅原子小的材料,同時(shí)光刻設(shè)備也需要做出修改.但目前還無(wú)法找到可以替換的材料,實(shí)驗(yàn)室項(xiàng)目有碳基芯片,但其結(jié)構(gòu)要大于1nm.

    蔚背19245083510咨詢:    想知道28NM技術(shù)的芯片大概要什么時(shí)候才有? -
    沾益縣載荷回復(fù): ______ 你是想知道ARM芯片28NM的產(chǎn)品什么時(shí)候出吧,目前如果說(shuō)最快得知消息那么請(qǐng)你等等1月13日的拉斯維加斯的國(guó)際電子展,即CES,到時(shí)將會(huì)發(fā)布一系列新產(chǎn)品,當(dāng)然自然包括了新芯片出產(chǎn)時(shí)間,如上樓說(shuō)的HD 7000系列顯卡也會(huì)在這次電子展詳細(xì)發(fā)布.

    蔚背19245083510咨詢:    是ADM公司還是ABM公司 -
    沾益縣載荷回復(fù): ______ 沒(méi)有ADM應(yīng)該是ABM公司 ABM 英文縮寫(xiě): ABM (Asynchronous Balanced Mode) 中文譯名: 異步平衡方式 分 類: IP與多媒體 解 釋: 一種用高級(jí)數(shù)據(jù)鏈路控制(HDLC)控制的數(shù)據(jù)通信方式.異步是指在兩個(gè)沒(méi)有公共時(shí)鐘的站之間傳輸數(shù)據(jù)...

    蔚背19245083510咨詢:    瑞芯微RK3066兼容 瑞芯微四核?
    沾益縣載荷回復(fù): ______ 瑞芯微市場(chǎng)部的微博,發(fā)布了關(guān)于瑞芯微四核的消息了.很多朋友問(wèn)瑞芯微四核的芯片.瑞芯微的四核是28nm HKMG的A9四核,主頻1.8G,現(xiàn)在大部分公司還沒(méi)出來(lái)宣稱的所謂四核都是40nm A7的產(chǎn)品,A7的性能只有A9的70%.28nm HKMG的功耗比40nm的低了30~40%,真正的能把四核用起來(lái).另外新的四核是和現(xiàn)有RK3066的芯片兼容的,不用換板子. 今年年底給大家驚喜.

    蔚背19245083510咨詢:    縮小半導(dǎo)體工藝尺寸能走多遠(yuǎn)? -
    沾益縣載荷回復(fù): ______ 特約撰稿 莫大康 推動(dòng)半導(dǎo)體業(yè)進(jìn)步有兩個(gè)輪子,一個(gè)是工藝尺寸縮小,另一個(gè)是硅片直徑增大,而且總是尺寸縮小為先.由半導(dǎo)體工藝路線圖看,2013年應(yīng)該進(jìn)入14納米節(jié)點(diǎn),觀察近期的報(bào)道,似乎已無(wú)異議,而且仍是英特爾挑起大梁.盡管...

    蔚背19245083510咨詢:    下列不屬于離子束投影光刻的優(yōu)點(diǎn)的是? -
    沾益縣載荷回復(fù): ______[選項(xiàng)] A. 可采用分布重復(fù)投影結(jié)構(gòu) B. 可與光學(xué)光刻混合使用 C. 焦深大 D. 離子束可以保護(hù)下層基底

    蔚背19245083510咨詢:    半導(dǎo)體光刻中的pitch是什么意思 -
    沾益縣載荷回復(fù): ______ pitch=line+space minmum line or space determines photo & etch's capability. Different pitch, photo characteristic is different, different pitch, etch bais is different.

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