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    純水系統(tǒng)反滲透怎樣加藥清洗 超純水設(shè)備運行中的維護方法有幾種

    純水系統(tǒng)反滲透怎樣加藥清洗

    一般的化學(xué)清洗步驟如下所示。具體的事項根據(jù)現(xiàn)場的工作條件及清洗的要求確定。

    ① 沖洗膜元件。用反滲透產(chǎn)水或離子交換水進行幾分鐘沖洗。

    ② 配置藥品。保證藥品完全溶解。

    ③ 循環(huán)。用低流量置換膜元件中的水,排放一部分清洗液后,進行循環(huán)。污染嚴重時,如果選擇大流量循環(huán),則有可能會產(chǎn)生壓差過高的問題,從而損壞膜元件(單支膜元件最大壓降0.07 MPa)。此時,采用以下方法進行操作比較可靠:

    - 循環(huán)運行開始5分鐘,按設(shè)定流量1/3的量進行循環(huán);

    - 循環(huán)5 – 10分鐘間,按設(shè)定流量2/3的循環(huán)流量循環(huán);

    - 10分鐘后按流量要求循環(huán)。

    循環(huán)的時間要根據(jù)具體情況決定。一般以1小時為準。這期間要隨時檢測pH值是否變化。壓力應(yīng)該盡量保持較低的水平,盡可能的沒有產(chǎn)水出現(xiàn)。同時監(jiān)測壓差是否有變化。

    ④ 浸泡及再循環(huán)。緩慢關(guān)閉反滲透膜元件入口的閥門,循環(huán)量接近零時,關(guān)閉循環(huán)泵。為了防止液體流出壓力容器,浸泡時可以關(guān)閉相關(guān)的閥門。浸泡的時間根據(jù)污染的程度決定。一般在1 – 12小時范圍。浸泡后打開相關(guān)閥門再進行循環(huán)。

    ⑤ 沖洗。用反滲透產(chǎn)水或離子交換水沖洗膜元件和清洗裝置中的藥液。這時系統(tǒng)從循環(huán)狀態(tài)替換到排放狀態(tài)。用供給水沖洗膜系統(tǒng)。沖洗的時間大約為20 – 60分鐘。可以通過測定排水的pH值和電導(dǎo)率來判斷沖洗是否徹底,pH值和電導(dǎo)率的數(shù)值和進水的數(shù)值相近,并不再發(fā)生變化時就可以停止沖洗。

    ⑥試運行。正常啟動系統(tǒng),初期產(chǎn)水要排放掉,直至產(chǎn)水的水質(zhì)達到要求為止。為了得到穩(wěn)定的反滲透產(chǎn)水水質(zhì),恢復(fù)的時間有時要幾小時到幾天時間。尤其采用堿性溶液清洗(高pH值)后,水質(zhì)恢復(fù)需要較長的時間。



    反滲透系統(tǒng)都陪有一個藥箱,一臺反洗泵,和一臺保安過濾器。反滲透主機上也會設(shè)有反洗的進出口。具體藥劑配置可以聯(lián)系供應(yīng)設(shè)備廠家。或者反滲透藥劑廠家。一般情況下,預(yù)處理做的好可以半年多清洗一次反滲透摸。

    5.反滲透主機的維護保養(yǎng)
    5.1 當反滲透系統(tǒng)運行一定時間后,反滲透膜元件會受到給水中可能存在的懸浮物質(zhì)或難溶解物質(zhì)的污染,這些污染物中最常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機或生物沉積物。當反滲透膜出現(xiàn)下列情形之一時應(yīng)進行清洗。
    5.1.1 在正常壓力下,如產(chǎn)品水流量下降正常值10~15%。
    5.1.2 產(chǎn)品水質(zhì)降低10~15%,鹽透過率增加10~15%時。
    5.1.3 R0各段時間的壓差明顯增加。
    5.1.4 脫鹽率迅速下降。
    5.1.5 出水量銳減。
    5.2 膜元件的清洗應(yīng)在技術(shù)人員指導(dǎo)下進行,嚴禁擅自清洗。根據(jù)膜元件所受污染不同,所使用的清洗液亦不同。

    5.3 清洗步驟
    清洗液配方

    清洗液
    污染物 0.1%NaOH或
    1.0%Na4EDTA 0.1%NaOH或
    0.025%Na-DSS 0.2%HCl 1.0%Na2S2O4 2.0%
    檸檬酸
    無機鹽垢
    如(CaCO3) —— —— 最好 可以 可以
    硫 酸 鹽 垢
    CaSO4、Ba SO4) 最好 可以 —— —— ——
    金屬氧化物
    如鐵 —— —— —— 最好 可以
    無機膠體
    (淤泥) —— 最好 —— —— ——
    硅 可以 最好 —— —— ——
    微生物膜 可以 最好 —— —— ——
    有機物 可以作第一步
    清洗 可以作第一步
    清洗 作第二步
    清洗 —— ——
    注:
    a、表中清洗液的配制濃度為重量百分比濃度
    b、 污染物化學(xué)式符號:CaCO3 表示碳酸鈣;CaSO4表示硫酸鈣;Ba SO4表示硫酸鋇。
    c、清洗化學(xué)品符號:NaOH 表示氫氧化鈉; Na4EDTA表示乙二胺四乙酸四鈉;Na-DSS表示 十二烷基苯磺酸鈉鹽又名月硅酸鈉;HCl 表示鹽酸; Na2S2O4表示硫代硫酸鈉
    5.3.1 用干凈的產(chǎn)品水在清洗箱中配制清洗液
    5.3.2將清洗液在壓力容器中循環(huán)1-2小時,流速為7-9m3/h/支。
    5.3.3清洗完成后,排凈清洗箱并進行沖洗,至產(chǎn)品水清潔、無泡沫或無清洗劑為止。
    5.3.4 注意事項:對于不是金屬氧化物或有機物共生的硅垢,一般只有通過專門的清洗方法才能將它們?nèi)コ虼水敵霈F(xiàn)上述污染時,與供應(yīng)商聯(lián)系。

    http://baike.baidu.com/view/270461.htm
    請您參考。

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